一旦BSEC光源研究所在重生者的指引下，在ArF准分子激光器专利技术的基础上，研制成功ArFi准分子激光器和浸没式光刻系统，虽然浸没式光刻系统的专利技术属于BSEC，但根据双方签订的专利技术转让协定，ArFi准分子激光器的专利技术就属于GCA！
GCA生产ArFi准分子激光器，购买BSEC的浸没式光刻系统专利技术，也能生产浸没式光刻机。
早一日研制成功8英寸晶圆、350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，制程工艺最高就能提升到250nm，凭借提高35%的生产效率，Gikon光刻机的高端市场份额，夺回全球高端光刻机市场。
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