“汤普森院长，研究院要抓紧时间研制8英寸晶圆和250nm制程工艺的光刻机，需要的人员、设备和材料等都可以向艾德里安总经理申请。”
nikon光刻机设备公司自己研发光刻机光源系统和光学系统，还有东京电子、迪恩士、住友和东横等一系列日本配套厂商的支持，日本光刻机产业链完善，技术更新快，之前垄断了全球高端光刻机的市场份额。
由于蔡司半导体技术公司的加入，弥补了gca在光学系统方面的缺陷，如虎添翼，新一代8英寸晶圆、250nm工艺制程和适应250nm制程工艺双工作台系统的光刻机项目被命名为gca2500a。
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