前世虽然Nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功F2准分子激光器和浸没式光刻技术，生产成功浸没式光刻机，但半导体产业更新换代迅速，导致Nikon光刻机的可靠性能始终落后于ASML，从此，全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主ASML。
前世由于ASML独有的EUV光源无人能够研制，国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力，以美国为首的西方国家并没有限制ArF准分子激光器和ArFi准分子激光器的出口。
BSEC可以直接进口市场价45五万美元一台的GCA牌ArF准分子激光器，购买蔡司公司生产的光学系统，进口6英寸晶圆，加上独创的光刻机磁悬浮式双工作台系统，就能生产1um制程工艺的光刻机，虽然6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线是西方国家淘汰的生产线，但在国内还大有市场。
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