以学部委员黄坤、王首武和邓国辉为首的十二名光刻机半导体专家组成的专家鉴定组，通过现场测试，专家组组长黄坤亲自书写鉴定报告。
京城半导体设备股份有限公司研发成功的光刻机双工作台系统，在现场，对磁悬浮式双工作台系统进行了十次测试，能提升芯片制程工艺精度15%，提高芯片生产效率35%，还有不断提升的潜力，这项发明在光刻机专利技术中属于世界首创，属于重大核心技术发明，强烈推荐申请公司发明专利。
十二名专家组成员在鉴定报告上签名同意。
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