一九六一年，GCA是第一家制造商业步进和重复掩模减少设备的公司；七五年，推出了首个用于抗蚀剂加工的晶圆轨道；七八年，推出DSW 4800、第一个成功的晶圆光刻机；八五年研发出第一台为贝尔实验室开发的DUV步进投影式光刻机。
技术实力雄厚。
八八年，General Signal以七千六百万
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