大家为了生产一套6英寸晶圆和1um半导体生产线而苦练内功，看到公司的发展前景广阔，干劲十足，废寝忘食。
四个多月的时间，就有43项有关光刻机半导体有关的光源、光刻机光学系统、光刻机自动化、硅片制造、光刻胶、掩膜版、热处理、刻蚀机和离子注入机等科研成果通过相关专家组的技术鉴定，申请公司发明专利，转入生产阶段。
八月底，光刻机半导体研究院将509项有关6英寸晶圆和1um半导体生产线的技术难题的光源、镜头、激光器、光刻机工作台、掩膜版、光刻胶和光刻气体等半导体材料和涂胶显影设备等技术攻关项目和资金已经落实到项目组负责人，还有776项有关单晶硅制造、刻蚀、薄膜沉积设备等技术攻关项目和技术也落实到项目负责人。
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