3、5月就先后量产了12英寸晶圆、90nm制程工艺的光刻机，但如今都被193nm波长的世界性难题卡住了。
科学家们发现，193nm波长光刻机的极限制程工艺是90nm，再往下就很难实现了，如何突破90nm，跨入65nm制程工艺，成为阻挡在所有光刻机公司面前的拦路虎。
虽然提出了157nm干式光刻技术和EUV技术，但一晃过去近2年，GcA和Nikon的科学家们还没有攻克65nm制程工艺，不然的话，早就研发成功65nm制程工艺，甚至45nm制程工艺的光刻机了。
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